MEMSファンドリー

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MEMSファンドリー MEMS Foundry

半導体マスクブランクス、大型マスクブランクスの生産で培った豊富なガラス基板の加工技術を活用してガラスMEMSの試作、量産に対応致します。

ガラスMEMSファンドリー Glass MEMS Foundry

アルバック成膜ULCOATは、半導体用Crマスクブランクス、フラットパネルディスプレイ用大型マスクブランクス、カラーフィルター用ブラックマトリクスの生産で培った豊富なガラス基板の加工技術を活用してガラスMEMSの試作・量産に対応いたします。

アルバック成膜のガラスMEMSファンドリーの特長

μ−TAS、マイクロ化学システム、DNAチップなどの微細なデバイスをガラス基板上に半導体技術を用いて形成します。

金属膜の成膜、パターニング
微細流路の作製
直接接合
ガラス基板:最大370mm×470mm
MEMSとは

MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)はマイクロマシン、MST(Micro System Technology)とも呼ばれ、半導体技術等を用いてシリコン基板、ガラス基板上に製作されたミクロン以下のサイズの微小なデバイスです。

対応プロセスメニュー Process

対応プロセスメニュー

ガラス基板を用いたMEMSデバイスを実現するため、各種製造プロセスをご提供いたします。

設計とシミュレーション Design & Simulation

パターン設計
プロセス設計
  • ガラス基板上の流体MEMSデバイスの製造プロセスの設計

フォトリソグラフィ Photolithography

レジスト塗布 Photoresist Coating
  • ポジレジスト Positive Photoresist
  • ネガレジスト Negative Photoresist
  • MEMS用厚塗りレジスト Photoresist for MEMS
両面露光 Double-sided Aligner

両面露光装置

両面露光装置

  • マスク…5インチ角、6インチ角、9インチ角
  • 基板…最大8インチΦもしくは6インチ角
EB露光 Electron-Beam Exposure System

EB露光装置

EB露光装置

  • 直接描画
  • 簡易パターンのフォトマスク形成
  • 基板…4〜8インチΦもしくは4〜6インチ
現像 Phoresist Delopment

現像装置

現像装置

  • パドル現象
  • スピン現象
レジスト剥離 Photoresist Removal
  • 熱硫酸
  • 有機溶媒
  • レジスト剥離液
線幅測定 CD Measurement

線幅測長装置

線幅測長装置

  • 光学式測長

成膜 Deposition

スパッタリング成膜 Sputtering

スパッタリング成膜装置

スパッタリング成膜装置

  • Cr、Cu、Ti、Ta、Al、Al-Si、Au、Ag、W、Ni、Si、SiO2、MoSi 他、その他ご要望が御座いましたらご相談下さい。
    お問い合わせはこちら
熱CVD Thermal Chemical Vapor Deposition
  • GNF(Graphite Nano Fiber)

ウェットエッチング Wet Etching

加工対象:
  • 各種ガラス(石英、無アルカリガラス、硼珪酸ガラス)基板
  • 金、Cr、Alなどの各種金属薄膜のウェットエッチング

ウェットエッチングベンチ

ウェットエッチングベンチ

硼珪酸ガラス ウェットエッチ

硼珪酸ガラス ウェットエッチ

洗浄

加工方法:
  • RCA洗浄
  • 純水洗浄

乾燥

加工方法:
  • IPAペーパー乾燥
  • スピン乾燥 Spin Dry
  • N2ブロー乾燥

ブラスト加工 Blasting

ブラスト加工装置

ブラスト加工装置

ガラス基板接合 Bonding

ガラス基板接合用ベーク炉

ガラス基板接合用ベーク炉

無アルカリガラス、硼珪酸ガラス、石英などの各種ガラス基板の直接接合が可能です。

  • 無アルカリガラス Non-alkali Glass
  • 硼珪酸ガラス Borosilicate Glass
  • 石英 Quartz
  • 基板サイズ:最大370mm×470mm

分析 Analysis

形状観察
  • SEM + EDX Scanning Electron Microscopy + Energy Dispersive X-ray spectroscopy

    Scanning Electron Microscopy

    Scanning Electron Microscopy

  • AFM Atomic Force Microscopy

    Atomic Force Microscopy

    Atomic Force Microscopy

  • 光学顕微鏡
  • レーザー顕微鏡
  • 段差測定機
元素分析
  • AES Auger Electron Spectroscopy

    オージェ電子分光

    オージェ電子分光

  • 顕微ラマン分光 Micro Laser RAMAN Spectroscopy

    顕微ラマン

    顕微ラマン

評価

電気特性 Electrical Characteristics
  • シート抵抗 Sheet Resistance
光学特性 Optical Characteristics
  • 反射率/透過率 Reflectance/Transmittance
  • その他
基板サイズ:最大370mm×470mm